바이오나노학부 나노 공학실험 레포트 photoresist

나노 공학실험 레포트

Image Reversal using AZ5214E positive photoresist

바이오나노학부

1. Introduction
-Photoresist는 전자소자의 회로와 화상 형성 등에 사용되고 있으며, IC, LSI, 초LSI의 미세하고 복잡한 회로 패턴을 제작하는데 있어서 필수 불가결한 재료의 하나이다. Photoresist는 빛을 받으면 화학변화를 일으키는 재료로 대표적으로 SU 8-50, AZ5214 등이 있다. 이번 실험의 Photoresist는 AZ5214E이다. 이 실험에 앞서 진행했던 Photoresist실험에서는 SU 8-100을 사용했었는데, 이는 점도가 너무 커서 wafer에 spin coating이 잘 되지 않았었다. 그러나 이번 Photoresist인 AZ5214E는 점도가 그렇게 크지 않았기 때문에 wafer에 spin coating이 잘 되었다. 이번 실험에서 알아보고자 한 것은 nega